ASML prépare de nouveaux masques de lithographie capables d’exploiter ses machines High NA EUV pour fabriquer de très grandes puces. Le groupe néerlandais veut travailler avec Nvidia, Intel, TSMC, Samsung et d’autres industriels afin de dépasser une limite actuelle de sa technologie la plus avancée. Une ligne pilote …Lire la suiteAimez KultureGeek sur Facebook, et suivez-nous sur TwitterN'oubliez pas de télécharger notre Application gratuite iAddict pour iPhone et iPad (lien App Store)L’article ASML prépare de plus grands masques High NA pour les futures puces géantes est apparu en premier sur KultureGeek.