Китайские производители чипов накопили сотни иммерсионных литографических установок ASML, работающих в глубоком ультрафиолете (DUV). Хотя они уступают передовым EUV-системам, такое оборудование можно использовать для выпуска 7-нм логических чипов и памяти для ИИ-ускорителей. Часть установок, приобретённых для зрелых техпроцессов, может быть перепрофилирована под более передовое производство — это поддерживает полупроводниковые амбиции Китая даже в условиях экспортных ограничений. Источник изображений: asml.com