В 2026 году Россия начнёт работу над созданием литографа для производства чипов по топологии 90 нм. Об этом 20 марта 2026 года на отраслевой научно-технической конференции радиоэлектронной промышленности заявил заместитель министра промышленности Василий Шпак.Исполнитель работ будет определён по результатам конкурса. Созданием подобного оборудования в стране занимается Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗТНЦ) совместно с белорусским предприятием «Планар». Компания ранее работала над литографами на 350 нм и 130 нм.Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв объяснил, что компания пока не решила, будет ли участвовать в конкурсе. В ноябре 2026 года центр планирует завершить разработку степпера с разрешением 130 нм. Представители Минпромторга не ответили на запрос о подробностях создания нового литографа. Читать далее