Научно‑исследовательские институты НИИТМ и НИИМЭ начали разработку первой в России кластерной установки из восьми модулей для нанесения слоёв алюминиевой металлизации методом вакуумного напыления. Оба института входят в Группу компаний (ГК) «Элемент». Оборудование позволит выпускать интегральные микросхемы с размером элементов от 180 до 90 нанометров на пластинах диаметром 200 миллиметров.Как отмечают в ГК «Элемент», главное преимущество установки — конфигурация транспортной системы. Два распределительных модуля разделены буферной камерой. Такая схема обеспечивает высокий уровень вакуума. Это улучшает чистоту и качество плёнок. Решение позволяет разместить до восьми технологических модулей и два шлюза для загрузки и выгрузки пластин. Читать далее