ASML：High NA EUV省時和成本　35萬片晶圓用曝光

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（中央社記者張建中台北2025年11月19日電）半導體微影設備廠ASML台灣暨東南亞區客戶行銷主管徐寬成今天表示，半導體製程技術持續不斷微縮，HighNA EUV設備將有助於客戶節省時間及成本，目前客