De acuerdo con las declaraciones de Fu Zhiwei, presidente de Xuzhou B&C Chemical, que es un proveedor nacional de fotorresistencias, China estaría entrando a una fase de avance acelerada respecto a los procesos avanzados de semiconductores, según lo informado por el South China Morning Post. Tendría el material que le hacía falta para poder tener avances respecto a la manufactura de las obleas de silicio, la etapa inicial en la fabricación de chips.Dicho material sería la fotorresina, un producto químico que es sensible a la luz y que resulta esencial para el grabado de los circuitos microscópicos. La empresa tendría la ambición de la producción en masa de varios materiales fotorresistentes que serían clave en procesos avanzados, los mismos que estarían cubiertos en un plazo de 5 años.La carrera en la fabricación de chips avanzados toma una nueva dimensión con ChinaEsta fotorresina se utiliza en otros procesos de fotolitografía y fotograbado; resulta ser un componente clave en la fabricación de chips. Con un aumento en los esfuerzos hechos en el sector nacional, las fotorresistencias tendrían una primera transición importante: de ser avances a completar un desarrollo sistémico. Prueba de inspeccion de semiconductoresEl siguiente paso es poder perfeccionar y fortalecer los nodos que se consideren maduros, mejorar las capacidades en tecnologías que se consideren de procesos avanzados, además de poder acelerar el desarrollo de todos los equipos, materiales y componentes claves con la finalidad de impulsar los procesadores de alto rendimiento y memoria de alta densidad. La tasa de autosuficiencia en fotorresistencias en China ha alcanzado un 20% en las líneas "G" e "I" que son de las más antiguas dedicadas a los chips de potencia y LED. Las empresas extranjeras abarcan hasta el 95% del mercado de alta gama nacional; lo curioso es que las fotorresistencias KrF y ArF tienen una tasa de localización mínima del 3% y -1%. Xuzhou B&C Chemical quiere lograr avances con estas fotorresistencias y tener una "ofensiva total" respecto al desarrollo de fotorresistencias de alta gama para los nodos de proceso más avanzados. .image img { width: 100% !important; height: auto !important; }