L'Istituto di Fisica delle Microstrutture dell'Accademia delle Scienze russa ha pubblicato una roadmap fino al 2037 per sistemi di litografia EUV a lunghezza d'onda a 11,2 nm. Il progetto, alternativo ai macchinari ASML, mira a supportare processi fino a 9 nm con costi ridotti, ma restano dubbi sulla fattibilità.