Instytut Fizyki Mikrostruktur Rosyjskiej Akademii Nauk zaprezentował szczegółowy harmonogram prac nad rodzimymi narzędziami litograficznymi w ekstremalnym ultrafiolecie. Projekt obejmuje okres od 2026 do 2037 roku i zakłada przejście od... Pełna wersja strony https://ithardware.pl/aktualnosci/rosja_euv_asml_proces_technologiczny-45524.html